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我公司生產(chǎn)的0.3um VK-L30F的拋光粉是做金相拋光的最好材料，同時還適合不銹鋼鏡面拋光，鈦金屬拋光，鑄鐵拋光，鋁材鏡面拋光，大理石石材鏡面拋光，油漆拋光，樹脂拋光，PCB電路板拋光，玻璃拋光，光學(xué)玻璃，眼鏡鏡片拋光，樹脂鏡片拋光，藍(lán)寶石拋光，LED拋光，鍺拋光，鋅拋光，拋光快，光亮度好，無劃傷。

氧化鋁拋光粉VK-L30F用于大理石鏡面拋光有優(yōu)良的高光澤度。

氧化鋁拋光粉VK-L30F用于藍(lán)寶石拋光比氧化硅的拋光速率快3倍左右，每小時能拋7-10um。

石材產(chǎn)品的拋光原理：
拋光材料主要是氧化鉻（Cr2O3）、白剛玉、氧化鋁（Al2O3，0.3um,VK-L30F）、草酸（COOH2）。 拋光磨石一般有兩種：樹脂拋光塊；樹脂拋光盤。

拋光的原理主要反映在2個方面：微粒研磨原理；物理化學(xué)原理。 

1、微粒研磨：當(dāng)磨料顆粒由粗磨到細(xì)磨、拋光時，磨料在石材表面磨削的痕跡由粗到細(xì)再到無肉眼看到的痕跡，表面便呈現(xiàn)光滑、平整、細(xì)膩，當(dāng)深度達(dá)110微米時，被加工面出現(xiàn)鏡面光澤，光彩照人，色澤鮮艷。

微粒研磨由以下幾道工序組成： 

①粗磨：要求磨具吃刀量深，磨削效率高，磨削的紋路粗，磨出的表面較粗糙，主要清除產(chǎn)品在前道工序中留有的鋸片痕跡并將產(chǎn)品的平整度，造型面磨削到位；

②半細(xì)磨：將粗磨痕跡清除，形成新的較細(xì)的紋路，產(chǎn)品加工面平整、順滑；

③細(xì)磨：細(xì)磨后的產(chǎn)品花紋、顆粒、顏色已清楚地顯示出來，表面細(xì)膩、光滑，開始有微弱的光澤度；

④精磨：加工后的產(chǎn)品，無肉眼察覺的痕跡。表面越來越光滑，光澤度約40~50度左右；

⑤拋光：這一步是出光最關(guān)鍵的地方，一般需要用0.3um的氧化鋁鏡面拋光粉VK-L30F進(jìn)行加工，處理后的石材表面明亮如鏡，具有一定的鏡面光澤度（85度以上）。

石材鏡面拋光粉技術(shù)指標(biāo)：