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更新日期2011-08-27 14:28
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智研 |
所在地： |
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本設(shè)備的腐蝕槽和清洗槽間的轉(zhuǎn)換由進(jìn)口SEW驅(qū)動(dòng) 。
概述：清洗對(duì)象：晶片
1超聲清洗，加熱清洗為單槽定時(shí)控制，到時(shí)給予結(jié)束提示音。
2工藝過程：上料、支離子水超聲清洗、去離子水加熱清洗、去離子水沖洗、下料
3結(jié)構(gòu)特點(diǎn)：本設(shè)備為柜體式，操作面帶有透明門窗。
4每個(gè)清洗槽互不影響，超聲、沖洗清洗槽的上給水（沖洗清洗槽配有熱水）、下排水為手動(dòng)方式。
5電控部分采用密封保護(hù)方式配有緊急停機(jī)裝置。
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