科研實驗專用碳化鉻靶材Cr3C2磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

碳化鉻（Cr3C2）為灰色粉末，有金屬光澤；斜方晶系；密度為6.68g/cm3，熔點：1890℃，沸點：3800℃；在高溫環(huán)境下（1000~1100℃）具有良好的耐磨、耐腐蝕、抗氧化性能；屬于金屬陶瓷。用作硬質(zhì)合金的晶粒細(xì)化劑及其他耐磨、耐腐蝕元件；以Cr3C2為基的金屬陶瓷在高溫下有極優(yōu)異的抗氧化性能；粗粒碳化鉻作為熔噴材料在金屬及陶瓷表面形成熔噴覆膜，賦予后者以耐磨、耐熱、耐蝕等性能，廣泛用于飛機(jī)發(fā)動機(jī)及石油化工機(jī)械器件上，以大大提高機(jī)械壽命；亦用于噴制半導(dǎo)體膜。
       產(chǎn)品參數(shù)
中文名 碳化鉻         化學(xué)式 Cr3C2        分子量 180.01
熔點 1890℃            沸點 3800℃         密度 6.68g/mL
純度 99.9%
支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價??！ 
服務(wù)項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質(zhì)量保證，售后無憂！
產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 
質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測→包裝出庫
       陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
       我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
       注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
       建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。