科研實驗專用鈥靶材Ho磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

鈥（Ho）為銀白色金屬，質(zhì)較軟，有延展性；化學性質(zhì)活潑，可使水緩慢分解，可以與幾乎所有非金屬元素化合；鈥在干燥空氣中穩(wěn)定，高溫時很快氧化；氧化鈥是已知順磁性強的物質(zhì)。鈥的化合物可做新型鐵磁材料的添加劑；碘化鈥用于制造金屬鹵素燈—鈥燈，鈥激光在醫(yī)學領域也應用非常廣泛。

產(chǎn)品參數(shù)
中文名 鈥        化學式 Ho         原子量 164.9
沸點 2700℃    熔點 1461℃     密度 8.79g/cm3
支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價??！ 
服務項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊?，質(zhì)量保證，售后無憂！
產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備 
質(zhì)量控制：嚴格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
        陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導熱性差，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
       我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
       注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
       建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。