科研實(shí)驗(yàn)專(zhuān)用硫化銻靶材Sb2S3磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

      硫化銻（Sb2S3）為黑灰色結(jié)晶或粉末，純?nèi)蚧R為黃紅色無(wú)定形粉末，露置空氣中逐漸氧化；溶于不揮發(fā)氫氧化堿溶液中，溶于濃鹽酸并放出硫化氫，不溶于水、乙酸和醋酸，溶于濃鹽酸、醇、硫化銨和硫化鉀溶液。主要用于焰火、玻璃、炸藥、油漆顏料的制造。也可作為光電子材料，在太陽(yáng)能電池、光電化學(xué)等領(lǐng)域有很好的應(yīng)用前景。

產(chǎn)品參數(shù)
中文名硫化銻       外文名ANTIMONY(III) SULFIDEIUPAC 
名稱(chēng)thioxo-stibane 分子式Sb2S3
別名三硫化二銻     CAS號(hào)1345-04-6
分子量339.68       EINECS號(hào)215-713-4
熔點(diǎn)550℃          折光率3.194
密度4.562g/cm3

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服務(wù)項(xiàng)目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊?，質(zhì)量保證，售后無(wú)憂！
產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器：多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 
質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測(cè)手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報(bào)告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測(cè)→包裝出庫(kù)
       陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您，選購(gòu)陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
       我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無(wú)氧銅作為背靶。
       注意：高純銦的熔點(diǎn)約為156℃，靶材工作溫度超過(guò)熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
       建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過(guò)3W/cm2。