工業(yè)EDI高純水設(shè)備

     工業(yè)EDI高純水設(shè)備，EDI高純水設(shè)備由碧?？淡h(huán)?？萍?/span>有限公司專業(yè)生產(chǎn)制造。工業(yè)EDI高純水設(shè)備要將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水。電阻率約10～18.3MΩ.cm極限值。 

詳細(xì)說(shuō)明：

    高純水水質(zhì)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。 

    工業(yè)EDI高純水設(shè)備，EDI高純水設(shè)備的工藝流程：

    原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

EDI高純水制取設(shè)備，EDI高純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

    EDI高純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：

    最近幾年電去離子在各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域都越來(lái)越受重視，許多工業(yè)系統(tǒng)開(kāi)始采用電去離子作為其水處理系統(tǒng)的更新?lián)Q代技術(shù)，如電力工業(yè)、制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、電鍍與金屬表面處理等。

（１）電力工業(yè)

    據(jù)推算電力行業(yè)水處理單元的操作費(fèi)用約占電力成本的10％，而用電去離子替代離子交換樹(shù)脂可以使每處理1000加侖水的成本由11美元降至1.75美元。

（２）制藥工業(yè)

    雖然藥用水的特點(diǎn)是并不要求很高的去離子程度，但電去離子系統(tǒng)具有同時(shí)去鹽和控制微生物指標(biāo)的特點(diǎn)，因此已有多家企業(yè)采用RO/EDI集成系統(tǒng)。據(jù)稱該類系統(tǒng)性能穩(wěn)定，全流程計(jì)算機(jī)連續(xù)監(jiān)控，全自動(dòng)操作無(wú)人值守。

〔３〕電子工業(yè)

    電子工業(yè)對(duì)水質(zhì)的要求極高，水電阻率要穩(wěn)定的大于18MΩ,而EDI出水一般在15-17 MΩ左右，因此在電子級(jí)水的生產(chǎn)過(guò)程多采用EDI＋拋光樹(shù)脂系統(tǒng)，即在EDI之后加離子交換，此工程雖然仍需離子交換，但由于EDI已除去了大部分離子，拋光樹(shù)脂幾乎不用再生，因此水處理費(fèi)用仍然很低。

（４）電鍍與金屬表面處理

    電去離子可用于電鍍廢水處理可以使水重復(fù)使用并回收重金屬離子。