北京 EDI超純水設(shè)備,   北京單晶硅超純水設(shè)備,   北京電子工業(yè)用超純水設(shè)備

EDI簡介
    EDI(Electro-de-ionization,continuouselectro-de-ionzation)又被稱為CDI和連續(xù)電除鹽。該技術(shù)是二十世紀(jì)八十年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展EDI在歐美等國己普遍使用，且占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場。在國內(nèi)此項技術(shù)的應(yīng)用在起步階段,有蓬勃發(fā)展的態(tài)勢。EDI廣泛地應(yīng)用于電子、電力、生物、制藥、化工等諸多領(lǐng)域，是傳統(tǒng)離子交換混床工藝的最佳取代技術(shù)。EDI的出現(xiàn)是水處理技術(shù)的一次革命性的進步，標(biāo)志著水處理工業(yè)全面跨入綠色產(chǎn)業(yè)的行列。
北京 EDI超純水設(shè)備,   北京單晶硅超純水設(shè)備,   北京電子工業(yè)用超純水設(shè)備
 
EDI工作原理
    EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水。 EDI設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18 MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
    EDI技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。
 
EDI技術(shù)是水處理工業(yè)的革命
與傳統(tǒng)的離子交換（DI）相比，EDI所具有的優(yōu)點：
1.EDI無需化學(xué)再生
2.EDI再生時不需要停機。
3.提供穩(wěn)定的水質(zhì)。
4.能耗低。
5.操作管理方便，勞動強度小。
6.運行費用低。
7.利用反滲透技術(shù)進行一次除鹽，再用EDI技術(shù)進行二次就可以徹底使純水制造過程連續(xù)化避免使用酸堿再生。
 
EDI過程 
   北京 EDI超純水設(shè)備,   北京單晶硅超純水設(shè)備,   北京電子工業(yè)用超純水設(shè)備
  
 
    一般城市水源中存在的鈉，鈣，鎂，氯化物，硝酸鹽，碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽離子組成。通過反滲透（RO）的處理，98%以上的離子可以被去除。RO純水（EDI給水）電阻率的一般范圍0.05-1.0MΩ·CM，即電導(dǎo)率的范圍為20-1μS/CM。 根據(jù)應(yīng)用的情況，去離子水電阻率的范圍一般為1-18.2 MΩ·CM。另外，原水中也可能包括其它微量元素，溶解的氣體（例如CO2）和一些弱電解質(zhì)（例如硼，二氧化硅），這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中也必須被除掉。但是反滲透過程對于這些雜質(zhì)的清除效果較差。 離子交換膜和離子交換樹脂的工作原理相近，可以使特定的離子遷移。
    陰離子交換膜只允許陰離子透過，不允許陽離子透過；而陽膜只允許陽離子透過，不允許陰離子透過。在一對陰陽離子交換膜之間充填混合離子交換樹脂就形成了一個EDI單元。陰陽離子交換膜之間由混合離子交換樹脂占據(jù)的空間被稱為淡水室。將一定數(shù)量的EDI單元羅列在一起，使陰離子交換膜和陽離子交換膜交替排列，并使用網(wǎng)狀物將每個EDI單元隔開，形成濃水室。在給定的直流電壓的推動下，在淡水室中，離子交換樹脂中陰陽離子分別在電場作用下向正/負(fù)極遷移，并透過陰陽離子交換膜進入濃水室，同時給水中的離子被離子交換樹脂吸附而占據(jù)由于離子電遷移而留下的空位。事實上離子的遷移和吸附是同時并連續(xù)發(fā)生的。通過這樣的過程，給水中的離子穿過離子交換膜進入到濃水室被去除而成為除鹽水。 
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