沈陽半導(dǎo)體清洗,沈陽光伏產(chǎn)業(yè)用水設(shè)備,美國E-CEEL超純水設(shè)備

半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：

半導(dǎo)體芯片清洗超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中，光伏行業(yè)電子管陰極涂甫碳酸鹽。如其中混入雜質(zhì)，就會(huì)影響電子的發(fā)射，進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水，在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒火粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會(huì)引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃動(dòng)并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個(gè)工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個(gè)工序需使用純水，每生產(chǎn)一個(gè)晶體管需高純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液，如純水中有金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì)，就會(huì)使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質(zhì)量，導(dǎo)致報(bào)廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對(duì)純水水質(zhì)的要求

在光伏行業(yè)晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會(huì)使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會(huì)使PN結(jié)耐壓降低，III族元素（B、Al、Ga等）會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化，V族素（P、As、Sb等）會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20%~50%）會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變化為N型硅而導(dǎo)致器件性能變壞。水中的顆粒（包括細(xì)菌）如吸附在硅片表面，就會(huì)引起電路短路或特性變差。
 
1.水源的影響       
由于水是一種溶解能力很強(qiáng)的溶劑,因此天然水中含有各種鹽類和化合物,溶有CO2, 還有膠體(包括硅膠和腐殖質(zhì)膠體),天然水中還存在大量的非溶解性質(zhì),包括粘土、砂石、細(xì)菌、微生物、藻類、浮游生物、熱源等。           

2.材料的影響                 
制備超純水的材料設(shè)備的材質(zhì)都是用金屬和塑料制成的,金屬在水中會(huì)有痕量溶解,造成金屬離子污染。一些高分子材料,在合成時(shí)常常加入各種添加劑、增塑劑、紫外吸光劑、著色劑，也引入大量的金屬、非金屬雜質(zhì)，同時(shí)還會(huì)帶來有機(jī)污染。             
材質(zhì)的污染主要以污染值來衡量。所謂污染值是指：單位面積的材料使單位體積的純水電阻率的增加值。

沈陽半導(dǎo)體清洗,沈陽光伏產(chǎn)業(yè)用水設(shè)備,美國E-CEEL超純水設(shè)備

半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備應(yīng)用場合：

☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

　　☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水

　　☆ 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

　　☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液

　　☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

　　☆ 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

　　☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路

　　☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

　　☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)

　　☆半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗

　　☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料

　　☆實(shí)驗(yàn)室和中試車間

　　☆汽車、家電表面拋光處理

　　☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品

 半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備制備工藝：

1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對(duì)象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象（≥16MΩ.CM）(最新工藝)

3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象（≥17MΩ.CM）(最新工藝)

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